多入射角激光橢偏儀
高端研發(fā)領(lǐng)域?qū)Ｓ玫亩嗳肷浣羌す鈾E偏儀，采用多項專利技術(shù)，儀器硬件和軟件具有多項定制功能設(shè)計，適用于光面或絨面納米薄膜測量、塊狀固體參數(shù)測量、快速變化的納米薄膜實時測量等不同的應(yīng)用場合。
產(chǎn)品特點： 1.高精度、高穩(wěn)定性 2.一體化集成設(shè)計 3.測量簡單 4.快速、高精度樣品方位對準(zhǔn) 5.多角度測量 6.實時測量 7.豐富的材料庫及物理模型
8.強(qiáng)大的數(shù)據(jù)分析和管理功能 應(yīng)用領(lǐng)域：
可應(yīng)用于納米薄膜的幾乎所有領(lǐng)域，如微電子、半導(dǎo)體、生命科學(xué)、電化學(xué)、顯示技術(shù)、磁介質(zhì)及金屬處理等。可對納米層構(gòu)樣品的薄膜厚度和折射率n及消光系數(shù)k進(jìn)行快速、高精度、高準(zhǔn)確度的測量，尤其適用于科研和工業(yè)產(chǎn)品環(huán)境中的新品研發(fā)及質(zhì)量監(jiān)控，可用于表征單層納米薄膜、多層納米層構(gòu)模系，以及塊狀材料（基底）。
技術(shù)指標(biāo)：
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激光波長 |
632.8nm(He-Ne
laser) |
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膜層厚度精度 |
0.01nm(對于Si 基底上110nm 的SiO2 膜層 |
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折射率精度 |
1x10-4 （對于Si 基底上110nm 的SiO2 膜層 |
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光學(xué)結(jié)構(gòu) |
PSCA |
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激光光束直徑 |
<1mm |
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入射角度 |
40°-90°可選，步進(jìn)5° |
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樣品方位調(diào)整 |
三維平移調(diào)節(jié)；±6.5mm（X-Y-Z三軸）
二維俯仰調(diào)節(jié)：±4°
光學(xué)自準(zhǔn)直系統(tǒng)對準(zhǔn) |
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樣品臺尺寸 |
Φ 170mm |
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單次測量時間 |
0.2s |
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推薦測量范圍 |
0-6000nm |
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最大外形尺寸（長x寬x高） |
887x332x552mm(入射角為90°時 |
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儀器重量（凈重） |
25kg |
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