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真空鍍膜簡介 :
Parylene真空鍍膜技術(CVD.Chemical Vapor Deposition),早期起始於美國航太工業、通訊衛星及國防軍事用途,而後逐漸轉移推廣至民間商業用途,至今約已40年。及至今日,各種產品或零件已趨向精密微小化,因此,一般的表面被覆處理方式,如:Epoxy、Urethane、Silicone、ED等,已無法符合此一嚴格要求。
真空鍍膜原理:
Parylene真空鍍膜技術,是將原料置於真空中,直接汽化並裂解成奈米分子流,再進入室溫下的鍍膜
室中,以氣相沈澱的方式,均勻滲入被鍍物體之內部隙縫與表 面針孔,並逐漸聚合成完整、輕薄、均勻而又高密度之微米Micro)膜層。因此,(其良好的被覆特性與功能,完全不同且優異於一般沈浸式或噴霧式的表面處理方式。
真空鍍膜流程 :
粉末狀之鍍膜材料(Dimer)在經過汽化(150℃)與裂解(650℃)過程後,進入鍍膜室中,在常溫下進行氣相沉澱,形成Polymer膜。
真空鍍膜的特性:
1.可形成高密度之無針孔膜層。
2.可形成極薄的膜層。(1~50μm)
3.可形成均勻且一致性的膜層。(100%直角包覆性)
4.產能大且迅速。(最多可達到1KK/Batch)
5.無毒特性完全符合環保採購要求。
parylene coating真空鍍膜提供“最佳防護可適用的範圍
1.磁性材料產業 絕緣、防鏽與防線傷。
2.風扇產業 絕緣、防鏽、防線傷與IP規範。
3.精密電子五金產業 防鏽、絕緣表面乾膜式潤滑。
4.LED產業防潮、防濺水與浸水等IP規範。
5.醫療器材產業防鏽、抗氧化、耐藥性、耐溶濟性與抗化學反應。
6.矽橡膠類產業耐酸鹼、防霉、干膜式潤滑與抑制游離。
7.PC Board(module)產業抗氧化、防鏽與絕緣。
8.古代或特別具有保存價值之文物與藝品。 防潮、防鏽與抑菌。
深圳市東田精密光電有限公司
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